荷蘭光刻機(jī)的核心技術(shù)有沒有屬于中國(guó)的？如果有， 美國(guó)高端芯片制造不會(huì)受制于人。因此，ASML生產(chǎn)的光刻機(jī)中沒有制造的核心部件。畢竟國(guó)內(nèi)最先進(jìn)的制造工藝光刻機(jī)還停留在90 nm。這和ASML生產(chǎn)的極紫外

荷蘭光刻機(jī)的核心技術(shù)有沒有屬于中國(guó)的？

如果有， 美國(guó)高端芯片制造不會(huì)受制于人。

因此，ASML生產(chǎn)的光刻機(jī)中沒有制造的核心部件。

畢竟國(guó)內(nèi)最先進(jìn)的制造工藝光刻機(jī)還停留在90 nm。

這和ASML生產(chǎn)的極紫外EUV光刻機(jī)的工藝技術(shù)還有很大差距，估計(jì)有16年的差距。

雖然極紫外EUV光刻機(jī)是由ASML生產(chǎn)的，但許多部件是由許多國(guó)家提供的。

只有ASML可以 t制造極紫外EUV掩模對(duì)準(zhǔn)器所需的所有部件。

例如，ASML ;的極紫外光刻機(jī)來自德國(guó)蔡司，光源來自美國(guó)Cym:光源ASML生產(chǎn)的極紫外EUV光刻機(jī)采用Cym:。

第一，250瓦的大功率。

為什么極紫外:物鏡組:雙工作臺(tái)雙工作臺(tái)的作用是承載晶圓，主要是將光刻前的準(zhǔn)備工作與正在進(jìn)行的光刻分開。

也就是說，當(dāng)一個(gè)工作臺(tái)上的晶圓曝光后，另一個(gè)工作臺(tái)為晶圓做曝光前的準(zhǔn)備，如測(cè)量。當(dāng)?shù)谝浑A段的暴露完成時(shí)，兩個(gè)階段交換位置和功能。

這樣，可以提高掩模對(duì)準(zhǔn)器中的生產(chǎn)速度，并且使用兩個(gè)平臺(tái)的掩模對(duì)準(zhǔn)器每小時(shí)可以處理200個(gè)晶片。與使用單級(jí)的光刻機(jī)相比，生產(chǎn)效率提高了三倍。

ASML研制的極紫外EUV光刻機(jī)采用了自己的Twinscan系列雙工作臺(tái)，這種雙工作臺(tái)的運(yùn)動(dòng)精度誤差控制在1.8 nm。

綜上所述，ASML生產(chǎn)的

碳基芯片龍頭股？

華麗家族、寶泰龍、銀隆、中科電氣300035、楚江新材002171、丹邦科技、德爾未來等。

銀隆股份:公司持有天津聚合碳基研究所51%的股份，標(biāo)的企業(yè)專注于碳基產(chǎn)品的研發(fā)。